证券之星音讯，依据天眼查APP多个方面数据显现天合光能(688599)新取得一项发明专利授权，专利名为“硅片除杂办法、硅片及其制备办法和使用”，专利申请号为CN6.9，授权日为2025年6月27日。

　　专利摘要：本发明触及一种硅片除杂办法、硅片及其制备办法和使用。该硅片除杂办法，包含如下过程：对硅片进行榜首制绒处理，制备反射率为11％～35％的硅片中间体；在所述反射率为11％～35％的硅片中间体上制备非晶硅层，且在所述非晶硅层中掺杂磷；在所述非晶硅层上制备氧化层，制备榜首中间体；对所述榜首中间体进行退火处理，制备第二中间体；对所述第二中间体进行第二制绒处理。该办法具有吸杂功率高、条件温文、简略易操作、低成本的长处，将除杂后的硅片用于器材中，可以添加光吸收，进步短路电流、开路电压和填充因子，终究提高器材的光电转化功率。

　　今年以来天合光能新取得专利授权282个，较去年同期添加了16.53%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研制方面投入了18.46亿元，同比增19.62%。

　　经过天眼查大数据分析，天合光能股份有限公司共对外出资了21家企业，参加招投标项目7052次；产业线条；此外企业还具有行政许可44个。

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